PLUTO-MH国产等离子刻蚀机是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。针对用户不同的需求，我们提供不同功能附件，在获得常规性能的同时，拥有表面镀膜（涂层），刻蚀，等离子化学反应，粉体等离子体处理等多种能力。

PLUTO-E100型科研型等离子体干法刻蚀（ICP/CCP）系统是一款低成本，适合于科研机构实验室的桌面型科研设备，整套系统的目的是在4寸以及以下的样品上进行干法刻蚀。该系统包括反应腔室，真空系统，RF射频系统，反应气路系统，电器控制，软件程序等几个子系统。

CCP等离子刻蚀机(Plasma Etcher)是一种常用于微纳米加工领域的设备，用于对半导体器件、光学元件、生物芯片等材料进行精细加工和图案定义。其原理基于等离子体技术，通过将气体放电产生等离子体，利用等离子体中的离子和自由基对材料表面进行化学反应和物理刻蚀。

ICP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。

PLUTO-MH国产等离子刻蚀机设备是一种用于微纳米加工的关键设备，主要用于半导体、光电子、纳米材料等领域的微细加工和表面处理。等离子刻蚀技术是半导体制造中的关键步骤，它在制备微电子器件、光电子器件、MEMS、太阳能电池等多种电子产品中发挥着重要作用。